Açıklamada, “Dünyanın en büyük çip üreticisi TSMC’ye Nanjing’de faaliyet göstermeye devam etme yetkisi verildi ve şu anda Çin’deki operasyonlarımız için kalıcı bir yetki başvurusunda bulunma sürecindeyiz” denildi. “Sanayi ve Güvenlik Bürosu (BIS) tarafından, kalıcı bir yetkilendirme görevi görecek Doğrulanmış Son Kullanıcı (VEU) yetkilendirmesine başvurmamız tavsiye edildi.“
VEU yetkileri 2007’den beri mevcuttu, ancak TSMC geçmişte böyle bir lisansa başvurmanın “gerekmediğini” söyledi. ABD Ticaret Bakanlığı’na bağlı BIS, ihracat kontrollerinden sorumlu.
Şirket, “VEU süreci aracılığıyla kalıcı bir yetki almayı bekliyoruz.” diye ekledi.
Tayvanlı çip üreticisi, geçen yıl Nanjing’deki çip tesisi için ABD ekipman desteğini almaya devam etmek üzere bir yıllık lisans aldı. Geçen yıl 7 Ekim’de ABD, 14 nanometre seviyesinde veya daha iyi mantık çipleri üretebilen her türlü yeni ekipmanın Çin’e sevkiyatını engellemek için kapsamlı ihracat kontrolleri uygulamaya koydu.
TSMC bünyesindeki Nanjing tesisi, genellikle 14 nm sınıfıyla aynı seviyede olduğu düşünülen 12 nm ve 16 nm yongaların yanı sıra daha az gelişmiş 28 nm ve 22 nm yongalar üretiyor. Nanometre ne kadar küçük olursa çipler o kadar gelişmiş ve güçlü oluyor.
Washington’un ihracat kontrolleri, yalnızca ABD’li çip aletleri üreticilerinin Çin’deki yüksek kaliteli çip üretimini desteklemesini engellemekle kalmıyor, aynı zamanda TSMC gibi diğer yerlerdeki şirketlerin, ABD tarafından onaylanmadıkça belirli durumlarda Çinli müşterilere hizmet vermek için Amerikan yapımı ekipman kullanmasını da yasaklıyor.
TSMC tarafından Nanjing tesisi için yapılan kalıcı lisans başvurusu, Washington’un ihracat kontrollerini daha da sıkılaştırmaya hazırlanmasıyla birlikte geldi.
Huawei‘in ağustos ayında beklenmedik bir şekilde 5G özellikli akıllı telefonu piyasaya sürmesi, politika yapıcılar arasında alarma yol açtı; Ticaret Bakanlığı Sekreteri Gina Raimondo, gelişmeyi “rahatsız edici” olarak nitelendirdi ve Çin’in teknoloji hırsını dizginlemek için yeni araçlara ihtiyaç duyulduğunu söyledi.