Çin, yarı iletken teknolojisinde önemli bir adım atarak kendi derin ultraviyole (DUV) litografi makinelerini geliştirdi. Bu gelişme, Çin’in ABD ve diğer Batılı ülkelere olan teknoloji bağımlılığını azaltma yolunda attığı stratejik bir hamle olarak öne çıkıyor. Çin Sanayi ve Bilgi Teknolojileri Bakanlığı (MIIT), bu yerli üretim makinelerin özellikle ABD, Hollanda ve Japonya’nın uyguladığı yaptırımlar sonrası kritik bir dönemde tanıtıldığını açıkladı.
DUV litografi teknolojisiyle yeni bir dönem
DUV litografi makineleri, silikon plakalar üzerine karmaşık devre desenlerini işleyerek çip üretiminde önemli bir rol oynuyor. Tanıtılan makinelerden biri 193 nanometre (nm) dalga boyunda çalışırken, 65nm çözünürlük ve 8nm üst üste bindirme doğruluğu sağlıyor. Diğer DUV makinesi ise 248nm dalga boyu ile 110nm çözünürlüğe ve 25nm bindirme doğruluğuna sahip. Bu makinelerin fikri mülkiyet haklarının da tamamen Çin’e ait olduğu belirtiliyor. Ancak Çin, bu makineleri geliştiren firmaların isimlerini açıklamış değil.
ASML ile karşılaştırma
Her ne kadar bu gelişmeler Çin için büyük bir adım olsa da, piyasadaki en gelişmiş DUV makineleriyle karşılaştırıldığında henüz bazı eksiklikler bulunuyor. Örneğin, Hollandalı ASML firmasının ürettiği en ileri düzey DUV makineleri, 38nm çözünürlüğün altında ve 1.3nm bindirme doğruluğu sunuyor. Ayrıca, ASML’nin sahip olduğu aşır ultraviyole (EUV) litografi makineleri, mevcut en gelişmiş çiplerin üretiminde kullanılıyor ve DUV makinelerinden çok daha küçük desenler işleyebiliyor.
Çin, uzun yıllardır yarı iletken teknolojisinde bağımsızlık elde etme mücadelesi veriyor. Ancak gelişmiş çiplerin seri üretimi için gerekli litografi sistemlerinin üretimi konusunda ilerlemeler yavaş gerçekleşiyordu. Çin’in neredeyse tüm gelişmiş çip üretiminde, ASML’nin makinelerine bağımlılığı biliniyordu. Ancak yeni geliştirilen bu yerli DUV makineleri, Çin’in bu bağımlılığı azaltma yolunda tarihi bir adım attığını gösteriyor.
ABD ve Hollanda’nın Çin’e yönelik kısıtlamalarını sıkılaştırması, Çin’in bu hamlesinin zamanlamasını daha da kritik hale getiriyor. Özellikle ASML’nin orta seviye DUV makinelerine bile lisans zorunluluğu getirilmesi, Çin’in kendi litografi yeteneklerini geliştirme ihtiyacını daha da acil hale getirdi. Çin’in bu yeni makineleri geliştiren firmalar arasında AMEC ve Shanghai Micro Electronics Equipment gibi önde gelen yarı iletken üreticilerinin de bulunduğu düşünülüyor.
Bu gelişme, Çin’in gelecekteki çip üretiminde ASML’ye olan bağımlılığını önemli ölçüde azaltabileceğinin sinyallerini veriyor. Ancak makinelerin performanslarının piyasa koşullarında test edilmesi ve geniş çapta üretime geçirilmesi için henüz zaman gerektiği belirtiliyor.
