ABD ve müttefikleri, Çin’in yarı iletken üretim kabiliyetini sınırlamak amacıyla yeni yaptırımlar uygulamaya başladı. Özellikle yarı iletken sektöründe kritik öneme sahip olan aşırı ultraviyole (EUV) litografi teknolojisine erişimin kısıtlanması hedefleniyor. Ancak Çin, ABD’nin yaptırımlarına rağmen bu alanda önemli bir adım atarak, yeni bir EUV patentiyle dikkat çekti. Bu gelişme, Çin’in litografi ekipmanlarında kendi kendine yeterliliğini artırma çabasının bir parçası olarak değerlendiriliyor.
Çin’in EUV teknolojisindeki ilerleyişi
2023 yılının Mart ayında Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) tarafından yapılan patent başvurusu, Çin’in aşırı ultraviyole radyasyon jeneratörleri ve litografi ekipmanlarındaki ilerlemesini gözler önüne seriyor. Geçtiğimiz günlerde halka açıklanan bu patent, Çin Ulusal Fikri Mülkiyet İdaresi tarafından incelenmeye devam ediyor. Bu gelişme, Çin’in yarı iletken üretimindeki zayıf noktalarından biri olan EUV litografisinde önemli bir adım olarak görülüyor.
SMEE’nin bu çabalarına rağmen, Çin’in EUV teknolojisinde henüz ASML gibi küresel liderlerin gerisinde olduğu biliniyor. Özellikle 28 nanometre ve altındaki işlemler için güvenilir seri üretim yapma konusunda Çin, ASML’nin gerisinde kalmış durumda. 2019 yılından bu yana ASML’nin EUV litografi ekipmanlarını Çin’e ihraç etmesi yasaklanmıştı. Buna rağmen SMEE, Çin’in gelişmiş litografi araçları üretimindeki en güçlü yerli aktörlerden biri olarak öne çıkıyor.
Yaptırımların etkisi ve SMIC’in stratejisi
ABD’nin yaptırımları, SMEE gibi firmaları ciddi şekilde etkiliyor. Aralık 2022’de ABD Ticaret Bakanlığı tarafından kara listeye alınan SMEE, ABD teknolojilerini ithal etme konusunda ciddi kısıtlamalarla karşı karşıya kaldı. Aynı şekilde Çin’in en büyük dökümhanelerinden biri olan Semiconductor International Manufacturing Corporation (SMIC)de ABD’nin yaptırımlarından etkileniyor. SMIC, ABD’nin teknolojiye erişim kısıtlamalarına rağmen, daha eski DUV (derin ultraviyole) ekipmanlarını kullanarak Huawei’nin Mate 60 telefonuna güç veren 7nm’lik Kirin 9000 çiplerini üretmeyi başarmıştı. Ancak bu başarı, üretim verimini düşüren çoklu desenleme yöntemini kullanmalarını gerektirdi.
Hollanda ve ASML üzerindeki baskılar artıyor
Hollanda da bu alandaki yaptırımlarını sıkılaştırmaya devam ediyor. 6 Eylül itibarıyla, ASML’nin Çin’deki litografi sistemleri için yedek parça ve yazılım güncellemeleri sağlaması için Hollanda hükümetinden lisans alması zorunlu hale getirildi. Dünyada 7 nanometre altındaki çipleri üretebilecek EUV makinelerini geliştirebilen tek firma olan ASML, Çin’in teknolojiye olan bağımlılığını sürdürmeye devam ediyor.
ABD ve müttefiklerinin yaptırımları, Çin’in yarı iletken sektöründe küresel rekabet gücünü sınırlamaya yönelik önemli bir hamle olarak öne çıkıyor. Ancak Çin, EUV patenti gibi gelişmelerle bu alanda kendi teknolojisini geliştirme yolunda ilerlemeye devam ediyor.