Şirket kısa bir süre önce, mevcut son üretim düğümlerini kullanarak mikroçipler ve diğer yarı iletken tabanlı bileşenler üretmek için özel olarak tasarlanmış bir “nanobaskı yarı iletken üretim” ekipmanı olan FPA-1200NZ2C’yi tanıttı.
Canon’un çip üretimine yönelik çözümü, rakiplerine benzer yetenekler sunuyor gibi görünüyor ancak nanobaskı teknolojisinin kullanımı sayesinde bunu önemli ölçüde daha düşük güç tüketimiyle yapıyor.
Geleneksel fotolitografi sistemlerinden farklı olarak, nanobaskı litografisi (NIL), bir devre desenini dirençli kaplı levha üzerine aktarmak için optik bir mekanizmaya dayanmaz. Canon‘un NIL makinesi, şirket tarafından açıklandığı gibi esasen bir damga görevi gören, devre deseni basılmış bir maskeyi levhanın direncine bastırarak aynı sonucu elde ediyor.
FPA-1200NZ2C, minimum 14 nm hat genişliği ile desenleme iş yüklerini işleyebiliyor; Canon’un belirttiği bu yetenek, günümüzün “en gelişmiş mantıksal yarı iletkenlerini” üretmek için gerekli olan 5 nm üretim düğümüyle karşılaştırılabilir düzeyde. Canon, maske teknolojisinde devam eden gelişmelerle birlikte NIL tekniğinin minimum 10 nm’lik (2 nm’lik düğüme eşdeğer) bir çizgi genişliğine ulaşmaya hazır olacağını öngörüyor.
Yeni FPA-1200NZ2C cihazı ayrıca ince parçacık kirlenmesini en aza indirecek şekilde tasarlanmış yenilikçi çevresel kontrol teknolojisiyle donatıldı. Canon’un NIL çözümü, aşırı ultraviyole (EUV) litografi makineleri gibi “özel” bir ışık kaynağı gerektirmediğinden, enerji açısından oldukça verimli ve güç tüketimini önemli ölçüde azaltarak CO2 azaltımına katkıda bulunuyor.
FPA-1200NZ2C, yukarıda belirtilen ince parçacık kontrol teknolojisi sayesinde, artan sayıda hatasız katmana sahip karmaşık yarı iletken devreler üretme kapasitesine sahip. Canon, bu makinenin, onlarca nanometrelik mikro yapılara sahip genişletilmiş gerçeklik (XR) cihazları için metalenslerin yanı sıra CPU’lardaki ve diğer çeşitli yarı iletken cihazlardaki mantık devreleri de dahil olmak üzere çok çeşitli uygulamalar için kullanılabileceğini belirtiyor.
Takshashila Enstitüsü başkanı Pranay Kotasthane’nin CNBC ile yaptığı röportajda belirttiği gibi, nanobaskı litografisi 20 yılı aşkın süredir var olan bir teknik. Ancak teknoloji önemli bir ilgi çekmeyi başaramadı; bunun başlıca nedeni, Hollandalı ASML şirketi tarafından üretilen aşırı ultraviyole (EUV) makinelerin son derece karmaşık çip ürünleri için üstün sonuçlar sağlamasıydı.
NIL teknolojisini 2004’ten bu yana geliştiren Canon, artık bu “ucuz” çözümün gelişmiş mikroçipleri bağımsız olarak üretmek için “yeterince iyi” olduğu fikrine güveniyor.
