Intel Foundry, şirketin Hillsboro, Oregon’daki Ar-Ge tesisinde bulunan, endüstrinin ilk ticari Yüksek Sayısal Açıklıklı (Yüksek NA) Aşırı Ultraviyole (EUV) litografi tarayıcısının montajının tamamlanmasıyla gelişmiş yarı iletken üretiminde önemli bir kilometre taşına ulaşıldığını bildirdi. Intel’in Hollandalı litografi firması ASML’den satın alarak kurulumunu yaptığı TWINSCAN EXE:5000 Yüksek NA EUV aracı şimdilik kalibrasyon aşamasında. Bu yeni araç, basılı görüntüleri bir silikon plakaya yansıtmak için optik tasarımını değiştirerek yeni nesil işlemciler için çözünürlüğü ve özellik ölçeklendirmesini önemli ölçüde artırma yeteneğine sahip.
Intel Foundry Mantık Teknolojisi Geliştirme Litografi, Donanım ve Çözümler Direktörü Mark Phillips konu hakkında yaptığı açıklamada “Yüksek NA EUV’nin eklenmesiyle Intel, endüstrideki en kapsamlı litografi araç kutusuna sahip olacak ve şirketin bu on yılın ikinci yarısında Intel 18A’nın ötesinde, gelecek proses yeteneklerini geliştirmesini sağlayacak” diyor.
Çip devine göre Yüksek NA EUV araçları, gelişmiş çip geliştirmede ve yeni nesil işlemcilerin üretiminde kritik bir rol oynayacak. High NA EUV alanında ASML ile işbirliğine giderek endüstrinin ilk hamlesini yapan Intel Foundry, çip üretiminde daha önce hiç görülmemiş hassasiyet ve ölçeklenebilirlik sunma iddiasında. Firma böylelikle yapay zekâ ve diğer gelişmekte olan teknolojilerdeki ilerlemeleri yönlendirmek için gerekli olan en inovatif özelliklere ve yeteneklere kazanabileceğini umuyor.
Intel’in iş ortağı olarak konumlandırdığı ve litografi tarayıcısını satın aldığı ASML firması ise Veldhoven, Hollanda’daki genel merkezinde bulunan Yüksek NA laboratuvarında ilk kez 10 nanometre (nm) yoğunluğunda çizgiler bastığını yakın zamanda açıklamıştı. Söz konusu çizgiler, bir EUV litografi tarayıcısı için çözünürlükte dünya rekoru kıran, şimdiye kadar basılmış en ince çizgileri temsil ediyor ve bu adım, ASML’nin iş ortağı Zeiss’ın inovatif Yüksek NA EUV optik tasarımını doğruluyor.
Aracın optikleri, sensörleri ve aşamalarının kaba kalibrasyonu tamamlandıktan sonra, çığır açan görüntüler basıldı. Bu adım, tam özellikte çalışmaya doğru bir sıçrama tahtasını temsil ediyor. ASML’nin tam alan optik litografi sistemiyle 10nm yoğunluğunda çizgiler basabilmesi, Yüksek NA EUV aracını ticari kullanıma hazır hale getirme yolunda önemli bir adım.
Intel Foundry’nin diğer proses teknolojisi yetenekleriyle birleştirildiğinde, Yüksek NA EUV’nin mevcut EUV araçlarından 1,7 kata kadar daha küçük baskılar yapabileceği bekleniyor. Bu, 2 boyutlu özellik ölçeklendirmesini mümkün kılarak 2,9 kata kadar daha fazla yoğunluk sağlayacak. Intel, yarı iletken endüstrisinde Moore Yasası’na yön veren daha küçük ve daha yoğun desenleme yolunda öncü konumunu koruyor.
Intel, 2025 yılında Intel 18A’daki ürün kanıt noktalarından başlayarak ve Intel 14A’nın üretimine devam ederek, gelişmiş çiplerin geliştirilmesi ve üretilmesinde diğer litografi proseslerine ilave olarak hem 0,33NA EUV hem de 0,55NA EUV’yi kullanmayı bekliyor. Intel bu yaklaşımla gelişmiş proses teknolojisinin maliyetini ve performansını optimize etmeyi hedefliyor.
